Aplica Diseño

International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL

Año 2021

Padre Alonso de Ovalle

International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL

Carreras Involucradas

Diseño de Ambientes
Diseño Gráfico
Diseño Industrial

Detalle del Proyecto

Descripción

El Proyecto consiste en un trabajo colaborativo entre estudiantes de Diseño Industrial de Israel, con alumnos de Diseño Industrial y Diseño de Ambientes de Duoc UC sede Alonso de Ovalle, donde se deberá “ Redefinir la experiencia de compra de las tiendas H&M” a través de un análisis desde la perspectiva de la disciplina del diseño en un plazo de 5 semanas.