+VICINI DA LONTANO: diseño, ideas y proyectos como medio de solidaridad a distancia. 

DDHUB, junto a ANAKO, laboratorio de investigación y desarrollo de los Apeninos en Italia, Fundación Tierra de Hombres de España y La ONG española Ayuda en Acción, te invitan a participar en el workshop de innovación social Piu vicini da lontano, que se realizará de manera presencial en las sedes Padre Alonso de Ovalle, Viña del Mar y Concepción. 

El proyecto “+Cerca desde lejos” (https://www.anako.it/piuvicinidalontano-spiega.html) tiene como objetivo abordar, mediante la aplicación de la planificación compartida y el Design Thinking, los problemas relacionados con los bienes básicos y de emergencia que existen en los campos de refugiados y en las zonas devastadas por las guerras en curso. Según estimaciones de ACNUR, en 2023 hay aproximadamente 893 millones de refugiados en todo el mundo, muchos de los cuales pasan años en campos de refugiados en diferentes partes del mundo. 

Este proyecto pretende aportar soluciones concretas para mejorar la calidad de vida de estas personas. 

El objetivo del taller es explorar junto a las organizaciones, nuevas posibilidades de diseño, uso y fabricación de productos que permitan favorecer la protección de las personas más débiles, recién nacidos, ancianos o enfermos que habiten campos de refugiados o poblaciones en crisis, que pueda ser implementado de manera simple, económica y práctica donde se necesite.​ 

Cada equipo por sede será dirigido por un docente, los docentes guía y sus horarios de desarrollo del taller son: 

Marcelo Vivanco (sede Alonso de Ovalle) jueves de 09:10 a 12:00 

Vania Olavarría (Sede Viña del Mar) jueves de 14:30 a 17:20 horas 

Luz Patricia Vargas (Sede Concepción) lunes de 10:00 a 12:50 Horas 

El taller está dirigido a todos los estudiantes de la Escuela de Diseño y abierto también a estudiantes de la Escuela de Salud. Pueden participar alumnos de cualquier sede que tengan interés y puedan asistir a alguna de las sedes donde se dictará. Los requisitos de postulación son: 

  • Estar en el segundo año o en un nivel superior de su carrera (se evaluará cada postulación de acuerdo a la carrera de origen, tanto para alumnos de Diseño, como de Salud). 
  • Tener motivación e interés para aportar con soluciones reales a quienes viven en situaciones de emergencia. 
  • Contar con disponibilidad horaria para asistir al taller de la sede al que se postula y comprometerse a participar en él. 

Características del taller y requisitos de aprobación: 

Postulación abierta hasta el día 13 de septiembre de 2024 en el siguiente enlace: https://bit.ly/piuvicinidalontanoddhub

Inicio del taller: 23 de septiembre de 2024 

Consultas a  

Pablo Melzer  

Docente escuela de diseño 

p.melzer@profesor.duoc.cl 

Oportunidad de Financiamiento para Docentes de la Escuela de Diseño en Congresos Internacionales.

Convocatoria abierta para el financiamiento de participación en Congresos Internacionales

El DDHUB de Duoc UC anuncia una nueva convocatoria para ofrecer financiamiento a los docentes de la Escuela de Diseño que deseen participar en congresos internacionales durante el año 2024. Esta es una excelente oportunidad para que los docentes compartan su trabajo y adquieran nuevas perspectivas en el ámbito de diseño a nivel global.

Apoyo ofrecido

Se disponen de 2 cupos de financiamiento que cubren los costos de inscripción al congreso, pasaje, alojamiento y seguro por los días de duración del evento. Es importante tener en cuenta que la cantidad de cupos puede variar según la cantidad de postulaciones y el costo que implique cada una.

Requisitos de postulación

Para poder postular a este beneficio, los docentes deben cumplir con los siguientes requisitos:

  1. Ser docente disciplinar de la Escuela de Diseño al momento de la postulación y durante la participación en el congreso.
  2. Tener al menos 3 años de antigüedad como docente en la Escuela de Diseño.
  3. Haber sido aceptado en el congreso al cual postula con una ponencia que destaque el valor de la metodología ACBD u otra línea de desarrollo de la Escuela de Diseño Duoc UC.
  4. Incluir en la postulación la afiliación institucional en el formato definido por la DIAIT, mencionando a la Escuela de Diseño.
  5. Contar con la aprobación y apoyo de su director/a de carrera para asistir al congreso en las fechas estipuladas.

Criterios de selección

Las postulaciones serán evaluadas en base a los siguientes criterios:

  1. Cumplimiento de todos los requisitos de postulación.
  2. Contenido de la ponencia aceptada en el congreso.
  3. Relevancia y temática del congreso al que se asistirá.
  4. Argumentos de postulación expresados en el formulario.

Los docentes seleccionados deberán comprometerse a entregar material de difusión sobre su participación en el congreso, como reportes e imágenes.

Plazo y contacto

La fecha límite para postular es el 30 de agosto de 2024. Para más información, los interesados pueden contactar a Paolo Caviglia al correo pcaviglia@duoc.cl o visitar el sitio web bit.ly/congresosddhub.

Esta es una gran oportunidad para que los docentes de la Escuela de Diseño amplíen sus conocimientos y establezcan redes internacionales, contribuyendo así al crecimiento académico y profesional de nuestra comunidad educativa.

Sitio web: diseno.duoc.cl/ddhub

Diseño exposición “Historia de una huella”.

A partir del segundo semestre de 2023 se ha desarrollado el proyecto de diseño de la exposición “Historia de una huella”, el cual busca poner en valor el diálogo generado entre el sacerdote y antropólogo Martín Gusinde y los pueblos originarios de tierra del fuego, producto del cual, hoy se cuenta con registros etnográficos de los pueblos selk’nam, yámanas y kawéskar, lo cual constituye un material de inmenso valor para nuestra sociedad. El proyecto se realiza gracias a la colaboración entre la fundación Gusinde, la Dirección de desarrollo estudiantil de Duoc UC y el DDHUB. 

Equipo de desarrollo 1° etapa (2023-2):

  • Janett Campos – Docente Escuela de Diseño sede Padre Alonso Ovalle 
  • Mónica Morales – Docente Escuela de Diseño sede Padre Alonso Ovalle 
  • Ignacio Cancino – Alumno ayudante carrera de Diseño Industrial sede Padrea Alonso de Ovalle 
  • Karina Alfaro – Alumna practicante carrera de Diseño de Ambientes sede Padrea Alonso de Ovalle 
  • María Paz Fernández – Alumna practicante carrera de Diseño de Ambientes sede Padrea Alonso de Ovalle 
  • Francisca Navarro – Alumna practicante carrera de Diseño Industrial sede Padrea Alonso de Ovalle 
  • María José Mengual – Alumna practicante carrera de Diseño Industrial sede Padrea Alonso de Ovalle 

Equipo de desarrollo 2° etapa (2024-1):

  • Janett Campos – Docente Escuela de Diseño sede Padre Alonso Ovalle.
  • Claudio Anich – Docente Escuela de Diseño sede Padre Alonso Ovalle. 
  • Romina Lazcano – Docente Escuela de Diseño sede Padre Alonso Ovalle. 
  • Erika ortega – Docente Escuela de Diseño sede Padre Alonso Ovalle. 
  • Nicolás del Río – Docente Escuela de Diseño sede San Carlos de Apoquindo. 
  • Jeansil Cisterna – Alumno ayudante carrera de Diseño Gráfico sede Padre Alonso de Ovalle.
  • Julio Velásquez – Alumno ayudante carrera de Diseño Industrial sede Padre Alonso de Ovalle. 
  • Marcela Saldivia – Alumno ayudante carrera de Diseño Ambientes sede Padre Alonso de Ovalle.