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Aplica Diseño

International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL

Padre Alonso de Ovalle

Detalles del Proyecto

International Workshop H & M / CHILE – ISRAEL

El Proyecto consiste en un trabajo colaborativo entre estudiantes de Diseño Industrial de Israel, con alumnos de Diseño Industrial y Diseño de Ambientes de Duoc UC sede Alonso de Ovalle, donde se deberá “ Redefinir la experiencia de compra de las tiendas H&M” a través de un análisis desde la perspectiva de la disciplina del diseño en un plazo de 5 semanas.

Características

Estado del proyecto

Terminado

Estudiantes Participantes

12 ESTUDIANTES: Rocío Mora, Nicolás Álvarez, Vanesa González, Camila Villela, María Jesús Rivera, Isabella Pino, Lukas Vivanco, Marcela Lavín, Daniela Maturana, Isadora Ahumada, Camila Pacheco, Daniel Silva

Docentes a Cargo

Paulina Romo

Carreras Involucradas

Diseño de Ambientes, Diseño Gráfico, Diseño Industrial

Tiempo de Desarrollo

5 Semanas

Año

2021

Información complementaria

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